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1200V沟槽型SiC MOSFET重复雪崩应力下的失效机理研究

Investigation of Failure Mechanisms of 1200 V Rated Trench SiC MOSFETs Under Repetitive Avalanche Stress

作者 Xiaochuan Deng · Wei Huang · Xu Li · Xuan Li · Chao Chen · Yi Wen · Jiawei Ding · Wanjun Chen · Yongkui Sun · Bo Zhang
期刊 IEEE Transactions on Power Electronics
出版日期 2022年9月
技术分类 功率器件技术
技术标签 SiC器件 宽禁带半导体 可靠性分析 功率模块
相关度评分 ★★★★★ 5.0 / 5.0
关键词 碳化硅 MOSFET 重复雪崩 失效机理 沟槽结构 栅极氧化层 热疲劳
语言:

中文摘要

本文通过实验研究了非对称沟槽(AT)和双沟槽(DT)结构碳化硅(SiC)MOSFET的重复雪崩耐受能力。研究揭示了不同结构的失效机理:AT-MOSFET主要表现为热诱导疲劳或场氧化层击穿,而DT-MOSFET则表现为电场诱导的栅氧化层退化或击穿。

English Abstract

In this article, the repetitive avalanche ruggedness of silicon carbide metal–oxide–semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) with asymmetric trench (AT) and double trench (DT) structure is investigated experimentally. The different failure mechanisms, i.e., thermal-induced fatigue or field oxide breakdown for AT-MOSFET and electric field induced gate oxide degradation or breakdown for DT-M...
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SunView 深度解读

SiC MOSFET是阳光电源组串式逆变器及PowerTitan系列储能PCS实现高功率密度和高效率的核心器件。1200V SiC器件在复杂工况下的雪崩耐受能力直接决定了系统的可靠性。本文揭示的AT与DT结构失效机理,对阳光电源在器件选型、驱动电路保护设计及功率模块封装优化具有重要指导意义。建议研发团队在设计中针对不同沟槽结构优化过压保护策略,以应对极端电网波动下的雪崩应力,进一步提升产品在高温、高频应用场景下的长期运行稳定性。