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超宽禁带氧化镓(Ga2O3)半导体材料在功率MOSFET中的研究进展
Progress of Ultra-Wide Bandgap Ga2O3 Semiconductor Materials in Power MOSFETs
| 作者 | Hongpeng Zhang · Lei Yuan · Xiaoyan Tang · Jichao Hu · Jianwu Sun · Yimen Zhang · Yuming Zhang · Renxu Jia |
| 期刊 | IEEE Transactions on Power Electronics |
| 出版日期 | 2020年5月 |
| 技术分类 | 功率器件技术 |
| 技术标签 | 宽禁带半导体 功率模块 |
| 相关度评分 | ★★★★ 4.0 / 5.0 |
| 关键词 | Ga2O3 超宽禁带 功率 MOSFET 击穿电场 Baliga 品质因数 电力电子 |
语言:
中文摘要
作为一种极具潜力的超宽禁带半导体，β相氧化镓（Ga2O3）凭借其4.8 eV的带隙、8 MV/cm的理论击穿电场及优异的巴利加品质因数，在电力电子领域备受关注。本文综述了其在二极管及场效应晶体管等下一代高功率电子器件中的应用前景与研究进展。
English Abstract
As a promising ultra-wide bandgap semiconductor, the β-phase of Ga2O3 has attracted more and more interest in the field of power electronics due to its ultra-wide bandgap (4.8 eV), high theoretical breakdown electric field (8 MV/cm), and large Baliga's figure of merit, which is deemed as a potential candidate for next generation high-power electronics, including diodes, field effect transistors (F...
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SunView 深度解读
氧化镓作为下一代超宽禁带半导体材料，其击穿电场远超SiC和GaN，是实现更高功率密度和更高电压等级功率模块的关键技术储备。对于阳光电源而言，该技术若实现商业化，将显著提升组串式逆变器和PowerTitan系列储能变流器（PCS）的功率密度，并进一步降低损耗。建议研发团队持续跟踪其热管理及衬底制备技术的成熟度，评估其在未来高压、高频电力电子变换器中的替代潜力，以保持在光储核心功率变换领域的领先地位。