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可靠性与测试 可靠性分析 功率模块 宽禁带半导体 ★ 5.0

一种基于偏置温度不稳定性

BTI)的功率MOSFET退化路径依赖性识别方法

作者 Xuerong Ye · Qisen Sun · Ruyue Zhang · Yifan Hu · Cen Chen · Min Xie · Guofu Zhai
期刊 IEEE Transactions on Power Electronics
出版日期 2024年10月
技术分类 可靠性与测试
技术标签 可靠性分析 功率模块 宽禁带半导体
相关度评分 ★★★★★ 5.0 / 5.0
关键词 功率MOSFET 偏置温度不稳定性 退化 路径依赖性 可靠性 应力交互作用 任务剖面
语言:

中文摘要

偏置温度不稳定性(BTI)是导致功率MOSFET关键运行参数退化的主要可靠性问题。准确识别退化的路径依赖性对于量化任务剖面下的累积退化至关重要,该研究旨在确定应力交互作用对器件退化的具体影响机制。

English Abstract

Bias temperature instability represents a significant reliability concern for mosfets, leading to the degeneration of critical operational parameters. Effective identification of path dependence is a prerequisite to ensure that cumulative degradation under the mission profile can be accurately quantified, which involves determining whether the stress interactions affect the degradation. Despite it...
S

SunView 深度解读

该研究直接关系到阳光电源核心产品(如组串式/集中式逆变器、PowerTitan/PowerStack储能系统)中功率模块的长期可靠性。随着产品向高功率密度和宽禁带半导体(SiC/GaN)应用演进,BTI效应导致的退化评估变得尤为关键。该方法可集成至iSolarCloud智能运维平台,通过对MOSFET退化路径的精准建模,提升对逆变器及PCS在复杂任务剖面下的寿命预测精度,从而优化预防性维护策略,降低全生命周期运维成本,确保系统在极端工况下的高可靠运行。