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功率器件技术 SiC器件 ★ 4.0

栅极电压凹陷作为碳化硅MOSFET在线健康监测的新指标

Gate Voltage Dip as a New Indicator for Online Health Monitoring of SiC MOSFETs

Mathis Picot-Digoix · Frédéric Richardeau · Jean-Marc Blaquière · Sébastien Vinnac 等6人 · IEEE Transactions on Power Electronics · 2024年10月

由于碳化硅/二氧化硅界面质量不佳以及其栅氧化层较薄,碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)比硅金属氧化物半导体场效应晶体管(Si MOSFET)更易受电荷俘获机制的影响。随着时间的推移,这些现象会加剧,导致晶体管性能下降和损耗增加。为了监测这种老化机制,本文提出了一种模拟方法,用于从栅极电压($V_{GS}$)波形中提取一个新发现的健康指标。这是通过使用双通道有源栅极驱动器减缓特定的导通过程来实现的。随后,该在线健康监测方法在一台1200 V - 36 A的碳化硅金属氧化物半...

解读: 从阳光电源的业务视角来看,这项基于栅极电压监测的SiC MOSFET在线健康管理技术具有重要的战略价值。作为光伏逆变器和储能系统的核心功率器件,SiC MOSFET的可靠性直接影响系统的整体性能和生命周期成本。 该技术针对SiC器件固有的电荷俘获机制导致的性能退化问题,提出了创新的模拟监测方法。通...