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源漏串联电阻对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管电学参数影响的研究
Investigation into the impact of source-drain series resistance on electrical parameters of AlGaN/GaN high electron mobility transistors
Eduardo Canga Panzo · Nilton Graziano · Eddy Simoen · Maria Glória Caño de Andr · Solid-State Electronics · 2025年1月 · Vol.228
摘要 本研究探讨了源漏串联电阻(RSD)对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMTs)的影响。首先,分析了RSD在具有不同几何结构(栅长和栅宽;Lg和W)的器件中的作用,以及在尺寸相同但采用不同栅金属制备工艺制造的器件中的差异。随后,评估了RSD对若干关键电学参数的影响,包括载流子迁移率(μn)、有效迁移率(μeff)、场效应迁移率(μFE)、漏极电流(Id)、输出电导(gd)、跨导(gm)、阈值电压(VT)以及亚阈值斜率(S)。结果表明,RSD在栅长Lg较小、栅宽W较大的晶体管中趋于降低...
解读: 该GaN HEMT源漏串联电阻研究对阳光电源功率器件应用具有重要价值。研究揭示降低RSD可显著提升载流子迁移率、跨导和漏极电流,同时优化阈值电压,这直接指导我们SG系列光伏逆变器和ST储能变流器中GaN器件的选型与优化。通过优化栅极金属工艺和沟道几何结构降低RSD,可提升三电平拓扑开关性能,降低导通...