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碳化硅MOSFET在漏极应力下的动态阈值电压漂移
Dynamic Threshold Voltage Drift of Silicon Carbide MOSFET With Drain Stress
Huapping Jiang · Yao Li · Xinxin Li · Mengya Qiu 等6人 · IEEE Transactions on Electron Devices · 2025年7月
碳化硅(SiC)金属 - 氧化物 - 半导体场效应晶体管(MOSFET)因其卓越的性能而广受青睐。然而,可靠性问题阻碍了其快速发展,其中阈值电压漂移是关键问题之一。尽管静态和动态栅极应力下的阈值电压漂移已得到广泛研究,但漏极应力引起的阈值电压漂移却很少受到关注。在本研究中,开发了一个专门用于碳化硅 MOSFET 的测试平台,该平台能够独立且解耦地施加栅极和漏极应力。此外,漏极应力可进一步分解为电压和电流分量,以便进行更详细的分析。另外,采用技术计算机辅助设计(TCAD)仿真来研究不同应力模式引起...
解读: 作为全球领先的光伏逆变器和储能系统供应商,阳光电源在产品设计中大量采用碳化硅(SiC)MOSFET以提升系统效率和功率密度。该论文揭示的漏极应力导致的阈值电压漂移现象,对我司产品的长期可靠性具有重要指导意义。 在光伏逆变器和储能变流器应用中,SiC MOSFET不仅承受高频栅极开关应力,更面临复杂...