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缺陷退火诱导的电子辐照4H-SiC紫外光晶体管光学增益恢复
Defect-annealing-induced optical gain recovery in electron-irradiated 4H-SiC UV phototransistors
Qunsi Yang · Yifu Wang · Xinghua Liu · Qianyu Hou · Applied Physics Letters · 2025年1月 · Vol.127
本研究报道了电子辐照后4H-SiC紫外光晶体管在热退火过程中光学增益的恢复现象。通过高能电子辐照引入晶格缺陷,显著抑制器件的光电响应;随后的退火处理促使缺陷态退火,有效恢复载流子迁移率与寿命,从而实现光学增益的显著回升。实验结果表明,适当温度退火可选择性消除深能级缺陷,提升材料内部量子效率。该发现为辐照损伤SiC光电器件的功能修复提供了可行路径,对极端环境下光探测器的可靠性优化具有重要意义。
解读: 该SiC器件辐照损伤修复技术对阳光电源功率器件应用具有重要价值。在新能源汽车驱动系统和充电桩产品中,SiC MOSFET长期工作在高温、高压、强电磁环境下,宇宙射线和高能粒子辐照会引入晶格缺陷,导致器件性能退化。研究揭示的退火修复机制为ST储能变流器、电机驱动控制器中SiC模块的可靠性提升提供理论依...