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功率器件技术 GaN器件 ★ 4.0

利用二维电子气和空穴气实现AlGaN/GaN/AlGaN双异质结MISHFET的阈值电压调控

Threshold Voltage Control in AlGaN/GaN/AlGaN Double-Heterostructure MISHFET Utilizing 2-D Electron and Hole Gases

Arno Kirchbrücher · Gerrit Lükens · Carsten Beckmann · Jasmin Ehrler 等6人 · IEEE Transactions on Electron Devices · 2025年2月

传统的 AlGaN/GaN 金属 - 绝缘体 - 半导体异质结场效应晶体管(MISHFET)会受到电介质/AlGaN 界面处俘获电荷的影响,从而导致阈值电压不稳定和准永久性偏移。在这项工作中,我们研究了采用 Al₂O₃ 栅极电介质的 AlGaN/GaN/AlGaN 双异质结(DH)MISHFET 中这些界面态的充电过程,尤其是放电过程。经过合理设计,这些无掺杂器件包含极化诱导的二维电子气(2DEG)以及二维空穴气(2DHG)。已知在施加较大的栅极偏压后,Al₂O₃/AlGaN 界面会持续地从 2...

解读: 从阳光电源功率半导体应用角度来看,这项AlGaN/GaN双异质结MISHFET技术具有重要的战略价值。氮化镓(GaN)功率器件是我司光伏逆变器和储能变流器实现高功率密度、高效率转换的核心技术路径,而阈值电压稳定性一直是制约GaN器件可靠性的关键瓶颈。 该研究通过创新性地构建二维电子气(2DEG)和...