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基于FDR的SiC-MOSFET栅极氧化层失效无损检测方法研究
Non-destructive Detection Method for Gate Oxide Failure in SiC-MOSFET Based on FDR
张俊杰 · 贠明辉 · 谭亮 · 韩兴国 等5人 · 电子元件与材料 · 2025年1月 · Vol.44
针对栅极氧化层失效的无损检测对提升SiC-MOSFET可靠性具有重要意义。本文基于器件物理模型建立小信号等效电路,并转化为T形网络的频域阻抗模型,结合频域反射(FDR)技术实现寄生参数精确表征。通过高温栅偏老化实验开展阈值电压退化研究,结果表明老化导致VGS(th)正向漂移,CGS增大、CGD显著减小,CDS变化微弱。退化严重器件的频域阻抗参数谐振频率上移,Z22在100 kHz低频段阻抗明显下降,呈现出与栅氧失效强相关的特征响应。该方法无需导通器件或额外测试电路,可实现快速、无损、通用的失效检...
解读: 该SiC-MOSFET栅极氧化层无损检测技术对阳光电源产品可靠性提升具有重要价值。可直接应用于ST系列储能变流器和SG系列光伏逆变器中SiC功率模块的质量筛选和在线监测,尤其适用于PowerTitan等大功率产品的预防性维护。通过FDR技术实现栅氧失效的早期预警,可有效降低高温、大电流工况下的器件失...