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III族氮化物中点缺陷扩散:GaN/InGaN量子阱结构热退化和非辐射复合的关键机制
Point defect diffusion in III-nitrides: A key mechanism for thermal degradation and non-radiative recombination in GaInN/GaN quantum well structures
Ajmal Khan · Van De Walle · Cambridge University Press · Den Baars 等5人 · Applied Physics Letters · 2025年1月 · Vol.126
基于III族氮化物的光电器件在高温下表现出多种形式的热退化现象,但其机理尚不明确。本文研究了不同发光波长的GaN/InGaN单量子阱结构中的非辐射载流子寿命及其与生长条件的关系。结果表明,随着缓冲层和包覆层生长温度的降低,非辐射寿命呈指数增长。研究表明,点缺陷扩散导致的非辐射复合是III族氮化物生长过程中普遍存在的机制,并可能是量子阱上方外延层(如p型层)生长及退火后热退化的主要原因。通过有效调控点缺陷扩散可提升器件性能与可靠性。
解读: 该研究揭示的GaN器件点缺陷扩散机制对阳光电源功率器件应用具有重要指导意义。在ST储能变流器和SG光伏逆变器中,GaN功率器件需承受高频开关和温度循环应力,点缺陷扩散导致的热退化直接影响器件长期可靠性。研究提出的通过降低外延层生长温度抑制缺陷扩散的方法,可指导阳光电源在GaN模块选型时关注外延工艺参...