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功率器件技术 SiC器件 ★ 4.0

各种4H-SiC MOSFET和JBS二极管C-V曲线中突降现象的调整

Adjustment of Abrupt Drops in the C-V Curves of Various 4H-SiC MOSFETs and JBS Diodes

Ruei-Ci Wu · Kung-Yen Lee · Pei-Chun Liao · IEEE Electron Device Letters · 2024年12月

本研究表明,通过设计 P 型区域、N 型结型场效应晶体管(JFET)区域和 N 型漂移区域的浓度和结构,可以调节平面金属 - 氧化物 - 半导体场效应晶体管(MOSFET)和无 P 柱的结势垒肖特基(JBS)二极管的电容 - 电压(C - V)曲线中突变下降对应的电压。当上部 N 型区域的浓度远高于下部 N 型区域,且宽度比下方 N 型区域的宽度窄时,MOSFET 和 JBS 的 C - V 曲线均会出现突变下降。从测量结果来看,在本研究中,当上部 N 型区域的浓度是下部 N 型区域浓度的 5 ...

解读: 从阳光电源的业务视角来看,这项关于4H-SiC MOSFET和JBS二极管C-V特性优化的研究具有重要的战略价值。碳化硅功率器件是光伏逆变器和储能变流器的核心组件,直接影响系统效率、功率密度和可靠性。 该研究通过精确设计P型区、N型JFET区和N型漂移区的掺杂浓度与结构,实现了对C-V曲线突降电压...