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通过近各向同性多晶金刚石顶面集成提升氮化镓超晶格堡状场效应晶体管
GaN Super-Lattice Castellated Field-Effect Transistors, SLCFETs)性能
Jeong-Kyu Kim · Mohamadali Malakoutian · Thomas Andres Rodriguez · Wiley Yu 等6人 · IEEE Electron Device Letters · 2025年8月
我们展示了在氮化镓(GaN)超晶格城堡式场效应晶体管(SLCFET)顶部集成近各向同性多晶金刚石(PCD)作为散热片后其性能的提升。这种集成使得饱和电流增加了约 14%(最高达到约 2.63 A/mm),同时阈值电压出现负向漂移,而栅极泄漏电流和关态电流几乎保持不变。在 GaN 沟道中发现了拉伸应变,该应变通过增加二维电子气密度导致阈值电压负向漂移。集成 PCD 后,观察到温度显著降低(在 6 W/mm 功率下从约 78°C 降至约 47°C),从而使跨导增加(从 652 mS/mm 增至 68...
解读: 从阳光电源的业务视角来看,这项GaN超晶格沟槽场效应晶体管(SLCFET)集成多晶金刚石散热技术具有重要的战略价值。GaN功率器件是我们光伏逆变器和储能变流器的核心元件,直接影响系统的功率密度、效率和可靠性。 该技术通过顶部集成近各向同性多晶金刚石散热器,实现了显著的性能提升。饱和电流提升14%至...