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采用甲酸还原剂的无压Cu@Ag烧结工艺以改善功率半导体的键合
Pressureless Cu@Ag sintering process with formic acid reducing agent for improved bonding of power semiconductors
Myeonghyeon Jeon · Dajung Kim · Journal of Materials Science: Materials in Electronics · 2025年1月 · Vol.36.0
银(Ag)和铜(Cu)作为传统焊料的替代材料被广泛应用于烧结连接。特别是包覆型Cu@Ag(Ag包覆Cu)因其具有成本效益而受到越来越多的关注。然而,在Cu@Ag与Cu DBC基板的烧结过程中容易发生氧化,从而降低接头的强度和可靠性。已有研究尝试在烧结过程中引入甲酸以减轻氧化并促进颗粒间的颈部长大。本研究采用无压烧结方法,使用Cu@Ag材料系统地考察了甲酸在烧结过程中的作用。将Cu@Ag浆料印刷在Cu DBC基板上后,放置一个Si芯片,并在氮气气氛中于300 °C下进行烧结。实验设置了三种条件:在...
解读: 该Cu@Ag无压烧结技术对阳光电源功率半导体封装具有重要应用价值。甲酸辅助烧结可提升剪切强度至21.54MPa,适用于ST系列PCS和SG系列逆变器中IGBT/SiC模块的低成本可靠连接。相比传统焊接,300°C无压工艺降低热应力,提升三电平拓扑器件的热循环寿命。该技术可优化PowerTitan储能...