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基于新型双面工艺的互补型垂直场效应晶体管
Complementary Vertical FETs (CVFETs) Enabled by a Novel Dual-Side Process
作者未知 · IEEE Electron Device Letters · 2025年1月
我们展示了采用创新的双侧工艺(DSP)实现的单片集成互补垂直沟道场效应晶体管(CVFET)反相器。NMOS和PMOS均实现了良好的电学特性:顶部NMOS的跨导为$69~\mu$ S/$\mu$m,导通电流$I_{on}$为$18~\mu$ A/$\mu$m(@栅源电压$V_{GS}$ - 阈值电压$V_{T} = 0.45$ V,电源电压$V_{DD}=0.65$ V),导通电流与关断电流之比$I_{on}/I_{off} = 3.1\times 10^{6}$,亚阈值摆幅$SS = 69$ m...
解读: 从阳光电源的业务视角来看,这项互补垂直场效应晶体管(CVFET)技术虽然属于先进半导体工艺领域,但对我们的核心产品线具有重要的潜在战略价值。 该技术通过创新的双面工艺实现了NMOS和PMOS的单片集成,展现出优异的电气特性:亚阈值摆幅接近理想值(69-72 mV/dec),开关电流比达到10^6量...