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栅极开关不稳定性下1700 V平面栅SiC MOSFET的退化依赖性分析与建模
Degradation Dependency Analysis and Modeling of 1700 V Planar-Gate SiC MOSFETs Under Gate Switching Instability
Cen Chen · Zicheng Wang · Xuerong Ye · Yifan Hu 等6人 · IEEE Transactions on Power Electronics · 2024年11月
碳化硅(SiC)金属 - 氧化物 - 半导体场效应晶体管(MOSFET)在各种电力电子应用中日益普及。然而,与栅极氧化物相关的重大可靠性问题阻碍了它们的广泛应用。交变栅极偏置下的阈值电压漂移,通常称为栅极开关不稳定性(GSI),对可靠性构成了重大挑战。鉴于碳化硅 MOSFET 在功率转换器中广泛使用,与传统的偏置温度不稳定性相比,研究 GSI 具有实际意义。本研究系统地探究了 1700 V 平面栅碳化硅 MOSFET 对栅极偏置、温度和开关时间等因素的依赖性,并基于物理解释给出了加速因子的形式。...
解读: 从阳光电源的业务场景来看,这项关于1700V平面栅SiC MOSFET栅极开关不稳定性(GSI)的研究具有重要的工程应用价值。在我们的大功率光伏逆变器和储能变流器产品中,1700V级SiC MOSFET正逐步替代传统IGBT成为核心功率器件,其高频开关特性和低损耗优势能够显著提升系统效率和功率密度。...