← 返回
拓扑与电路 ★ 4.0

准原位再沉积实现NiFe基

氧)氢氧化物在高OER电流密度下的稳定化

作者 Hui Wan · Jianhang Nie · Fernandez Rivas · Schulze Greiving · Alarcon Llado · Di Palma
期刊 Applied Physics Letters
出版日期 2025年1月
卷/期 第 126 卷 第 15 期
技术分类 拓扑与电路
相关度评分 ★★★★ 4.0 / 5.0
关键词 NiFe基(氧)氢氧化物 准原位再沉积 高OER电流密度 稳定性 应用物理快报
语言:

中文摘要

本文报道了一种通过准原位再沉积策略稳定NiFe基(氧)氢氧化物电催化剂的方法,有效抑制其在高析氧反应(OER)电流密度下的溶解失活。实验结合电化学与材料表征手段,证实该方法可实现活性组分的动态修复与结构重构,显著提升催化剂的长期稳定性。该机制为设计高效、耐用的OER催化剂提供了新思路。

English Abstract

Meng-Yuan Xie, Jia-Rong Huang, Hui Wan, Jianhang Nie, Ming-Hua Xian, Zhen-Yang Ou-Yang, Gui-Fang Huang, Wei-Qing Huang; Quasi- _in situ_ redeposition-enabled stabilization of NiFe-based (oxy)hydroxides under high OER current density. _Appl. Phys. Lett._ 14 April 2025; 126 (15): 153901.
S

SunView 深度解读

该NiFe基催化剂稳定化技术对阳光电源氢能业务具有重要参考价值。在电解水制氢系统中,析氧反应(OER)是核心环节,高电流密度下催化剂的稳定性直接影响电解槽寿命和制氢效率。准原位再沉积策略实现的动态修复机制,可启发阳光电源开发更耐用的电解槽电极材料,降低系统维护成本。该技术可应用于光伏制氢一体化方案,提升PowerTitan储能系统配套的绿氢生产单元的长期可靠性。此外,动态稳定化思路也可借鉴到功率器件的热管理与寿命优化中,为SiC/GaN器件在高功率密度工况下的可靠运行提供新思路。